第四百六十二章 EUV
9月初，孟谦又去了一趟霓虹国，跟索尼签署了一份秘密文件，达成了战术同盟协议，两家公司将携手一起先干三星，当大家出现利益冲突的时候，一切以先干三星为主，之后索尼跟大风集团再竞争。
虽然此时的三星其实已经很难倒塌了，毕竟有高丽国撑着，但能利用各种方法压一压三星的发展也是好的，因为孟谦最在意的并不是三星有多强大，而是未来自己跟米国全面对抗的时候，三星这个家伙很可能会像当初捅霓虹国一样来捅华夏。
这一世，至少，绝对不能让三星在华夏影响太深。
这次来霓虹国，除了跟索尼谈战术合作的事情，孟谦还有一件很重要的事情要做，这个事情跟光刻机有关。
米国这边由英特尔牵头开始搞大规模EUV光刻机研究已经有一段时间，时不时的冒出一些消息来让人觉得下一代光刻机是米国的...
不过在下一代光刻机的发展上孟谦确实也要多上点心了，最近沪上微电子那边给孟谦传来了很多坏消息，好多技术都搞不定。
所以，孟谦需要加快一些事情的发展。
这里就不得不稍微提一点关于EUV的历史，孟谦以前看过一篇文章说：EUV光刻技术在1999年被国际半导体技术发展路线图确定为下一代光刻首选技术，这就意味着，谁如果不参与到EUV光刻技术研发，谁就将在下一代芯片竞赛中自动弃权。
为了确定这个事情，孟谦好不容易找到了1999年的国际半导体技术发展路线图原文，压根没有这句话，连类似的话也没有...
相反，按照当时的记载，1999年那会儿关于下一代光刻技术的猜想有四个，分别是157nm F2激光，电子束投射(EPL)，离子投射(IPL)以及EUV和X光，因为EUV属于软X光，所以和X光的研究算在一个领域。
当时研究全球研究EUV的企业和机构确实超过200家，但研究157nm F2激光的企业和机构超过300家...
而且绝大部分企业和机构都是多个方向一起研发，尤其是IBM，四个方向一起研发。
当时搞157nm F2激光搞得最好的就是SVG跟尼康，而当时搞EUV搞的最好，也是投入最大的企业，正是英特尔，这也是为什么最近英特尔跳出来高喊要靠EUV打造下一代光刻机。
在这个年代，英特尔率领的联盟就是EUV第一梯队，而第二梯队是哪呢，从投入来说，第二梯队看似是欧洲，但从成果来说，第二梯队肯定是霓虹国，因为霓虹国很早就开始研究EUV了，只是中间略有断层，断层的几年霓虹国重点研发在X光上，但基础还在，后面捡起来后发展的也很快，而在霓虹对EUV研究最深的，也是尼康。
所以尼康在后世自嘲道，自己在20年前就掌握了EUV关键技术，可惜的是，那个时候的基础还不足以撑起EUV光刻机的发展。
这话其实说的也没错，人家ASML在没有竞争对手的情况下搞EUV光刻机搞了十年，尼康在这个年代搞EUV光刻机能搞起来才见鬼了。
这就是孟谦为什么一定要尼康死的原因，孟谦要尼康这家公司！
所以在跟索尼达成战术联盟后，孟谦马上提出了一个需求，那就是在相机领域的进一步合作。尼康最近想要靠相机翻身的事情大家都知道了，而且曾经的尼康确实靠相机撑过了这几年。
所以孟谦绝对不能给尼康机会，喊上了索尼跟佳能进一步加深相机的合作研发，为此孟谦主动承担了大量研发费用，上来就先砸了10个亿软妹币，索尼跟佳能加起来也就跟了5个亿，但研发成果大家共享。
其实大风集团本身依靠军方技术的下放正快速提升着自己在工艺，镜头等领域的水平，这次还要这么拉上索尼跟佳能，确实就是因为想最大程度的打压尼康。
另外，除了打压尼康，大风集团现在独自对抗英特尔发起的联盟显然有些吃力，所以孟谦也需要一个联盟。
这次来霓虹国，孟谦带着关于EUV光刻机的部分研究资料，过来拉联盟来了。
至于目标，自然是霓虹国在EUV领域的领头企业，包括三菱，霓虹国电气股份有限公司，霓虹国电报电话公司，东芝等，而作为现在全球三大浸没式光刻机生产厂家的佳能，虽然在EUV领域没那么厉害，但肯定也入局了，而且是最积极的那个，帮着孟谦“忽悠”自家企业。
毕竟佳能好不容易跻身全球光刻机第一梯队了，不想被挤下来了啊。
而为了不被挤下来，现在佳能只能跟着大风集团统一战线，如果这个时候跟大风集团搞分裂，那就等着被米国弄死吧。
有大风集团带来的资料加上佳能拼了老命的牵线搭桥，孟谦最终成功成立了华霓EUV研发同盟，除了霓虹国这边十几家企业和机构，华夏这边同样有大风集团，沪上微电子，清华，长光所，45所等十多家企业和机构。
消息一出来，尼康是第一个坐不住的，第一时间跑去霓虹国半导体协会投诉，你们搞EUV居然不带上我尼康？你们是不是脑子有问题？
然而，根本没人搭理尼康，这联盟是人家大风集团跟佳能牵头的，就是不想带你怎么了...
而在联盟消息出来的时候，米国那边自然也做出了反应，英特尔现在也没办法阻止两国的合作，但是英特尔高调的跳出来表示他们在EUV领域取得了巨大的突破，还出了一份可以公开的论文，上面有写到EUV光刻机的三大难题，其中最大的问题就是光源。
把光源的研究写的非常非常难，虽然说的也是实话，EUV穿透物体时散射吸收都非常厉害，这使得光刻机需要非常非常强的光源，这个难度是巨大的。连空气都能吸收EUV，所以机器内部还得做成真空的。
而且由于光刻精度是几纳米，EUV对光的集中度要求极高，相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射要求镜子长30cm起伏不到0.3nm，这相当于是燕京到沪上做根铁轨起伏不超过1毫米。
英特尔这些公开论文就是要让世人明白EUV光刻机有多难，然后说英特尔取得了重大突破，至于什么突破，含糊其辞，用一句机密就解释了。
结果就在英特尔发公告的这一天，华夏突然宣布，将KBFF晶体列为战略资源，不再对外出口...
孟谦看着新闻，突然有些莫名的兴奋，“看看谁先搞出EUV光刻机吧...”
...
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